半導体超微量分析の最深部 - アジレント 半導体ユーザミーティング 2024

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「ICP-MS の DL・BEC を極限まで下げるための基礎知識」

アジレント・テクノロジー株式会社　島村 佳典

年々、ICP-MS を用いた微量元素分析の管理濃度レベルが低くなる傾向にあり、検量線のバックグラウンド相当濃度（BEC）をできるだけ低く維持することが分析の現場に求められています。特定の元素の BEC が増加した場合、様々な汚染源を疑い、適宜、メンテナンスする必要があります。汚染源を特定するためには様々な知識や経験が求められ、一般には管理濃度レベルが極微量であるほど改善に時間を要します。そのため BEC が増加した時の対処法を知る事は ICP-MS で分析をする上で欠かせないスキルと言えます。本発表では、実際に過去にあった事例を題材にして、BEC を極限まで下げるために必要な ICP-MS の基礎知識を紹介します。

「半導体分野における極微量金属不純物分析の最近のニーズ」

株式会社イアス　代表取締役 川端 克彦 様

半導体製造分野における金属汚染管理として、薬液中およびダミーウェーハ中の金属分析として ICP-MS が広く一般的に用いられてきたが、新しい分析法の開発により、今まで見れなかった金属汚染を検出することが可能となった。本セッションでは、新しい分析法についてご紹介いただきます。

「データ管理システムを活用したデータインテグリティ対応と業務効率化」

アジレント・テクノロジー株式会社　小林 聡和

分析ラボでは、多くの試験記録データや分析データが生成されています。昨今デジタル化を中心としたシステム導入による業務効率化のみならず、データの完全性を確保するデータインテグリティへの対応が求められるようになっています。本発表では、アジレントのデータ管理システム OpenLab ECMXT および SLIMS を用いた対応策をご紹介します。

「半導体業界のための GC/MS ソリューション」

アジレント・テクノロジー株式会社　関口 桂

GC/MS はクリーンルーム内の微量汚染物質の分析や、製品・材料からのアウトガス分析に役立ちます。有機物の分析に役立つ加熱脱着 GC/MS での分析手法や適用例などについて紹介します。

「LC/MS による材料中の PFAS 分析最新情報」

アジレント・テクノロジー株式会社　今野 靖

近年、国内でも「PFOS」、「PFOA」を中心に有機フッ素化合物である PFAS （パーフルオロアルキル化合物およびポリフルオロアルキル化合物）に高い関心が集まっています。撥水、撥油性、安定性など機能性の高い有機化合物とし て幅広く使用されていますが、一方では、難分解性で残留性の高い性質を有するため、環境への影響が問題視され、また、健康影響の研究も進展し、人体へ の悪影響が懸念されています。「PFOS」と「PFOA」は既に各国で規制が行われておりますが、より多くの PFAS の規制強化やその検討が行われています。 本講演では、PFAS の最新情報についてご紹介します。

「ICP-MS による微量 Si 分析の現状と課題」

アジレント・テクノロジー株式会社　溝渕 勝男

現在、半導体関連に用いられる試薬中の Si 分析に関する需要は増加傾向で、トリプル四重極 ICP-MS を用いて、チューニング条件を最適化すれば、スペクトル干渉は、ほぼ除去できていると考えられます。しかしながら、BEC(Background Equivalent Concentration)は、他の元素に比較して、数桁高くなるケースがほとんどであり、他の元素に比べると、難しい点も多いのが現状ですが、これらの現状と課題について解説します。

「アジレント元素分析装置 ポートフォリオのご紹介」

アジレント・テクノロジー株式会社　嶋田 翔太

半導体・電子材料の元素分析においては、ICP-MS が広く用いられていますが、目的・用途によっては、ICP-OES や原子吸光が有用な場面もあります。ICP-OES  を中心に、アジレントの元素分析装置を紹介します。

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