PVD および CVD プロセス用の真空の作成、維持、および完成

純度、均一性、優れた接着性はすべて、コーティングや薄膜の重要な特性であり、真空は、プロセスの歩留まりを最大化しながら、これらの特性を実現するための基本的な技術です。コーティングと薄膜は、コーティング材料が真空下で気化しターゲット上に堆積する、高度な真空ベースの堆積技術を使用するアプリケーションです。アジレントは、革新的な薄膜メーカーと共同で開発した PVD および CVD プロセス向けの実績のある真空ソリューションを提供しています。真空を生成・測定・維持し、お客様のコーティングシステムをうまく稼働させます。

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お客様の産業プロセスのための真空

このウェビナーでは、産業用真空プロセスやシステムのパフォーマンスを最適化する真空の生成、測定、および維持に関する課題について説明しています。真空プロセスシステムでのリーク検出用ヘリウム検出器の使用をはじめ、さまざまなソリューションも紹介しています。



大型真空チャンバーのリークテストのベストプラクティス

大きな真空チャンバー内のリークを見つけるのにヘリウムリークディテクタを使用すると、高速で効率的で費用効果が高いことを示します。リークディテクタの適切な選択、バキュームシステムへのディテクタの接続、およびヘリウムトレーサーガスの適切な使用は、リークテストを成功させるための基本です。



リーク検出の基礎

このウェビナーでは、リークを見つけてリークレートを測定する際の考慮事項と課題について説明します。発泡試験や圧力減衰などの技術を、ヘリウム質量分光光度計のリーク検査と比較します。機器および設定、プロセスのコストと方法をレビューし比較します。




薄膜における真空および漏れ検出のアプリケーション

ロータリーポンプとルーツポンプシステム

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アジレントの拡散ポンプ

アジレントの拡散ポンプの機能と特長、仕様、注文情報、一般的なアプリケーション、およびテクニカルノート

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