Self-Cleaning イオン源を用いた、7890B/5977A でのフタル酸エステル類の分析

Pub.No. GC-MS-201503AZ-001

Self-Cleaning イオン源を用いた、7890B/5977A でのフタル酸エステル類の分析

Self-Cleaning イオン源という画期的な技術をフタル酸エステル類の分析に適用した分析例を紹介します。Self-Cleaning イオン源を使用することにより、フタル酸ビス (2-エチルヘキシル) (DEHP) を含むフタル酸エステル類、アジピン酸エステル類において安定したレスポンスが保たれるとともに、直線性が向上しました。
また、Self-Cleaning により常にイオン源を安定な状態に保つことが可能なため、イオン源洗浄の手間を省き、分析のダウンタイムを最小限にすることが可能です。

分野 材料試験・研究
キーワード Self-Cleaning イオン源、 7890B、 5977A、 エクストラクタイオン源、 フタル酸ビス(2-エチルヘキシル)(DEHP)、フタル酸エステル類 
掲載年月 2015/03
ページ数 3ページ (PDFファイルサイズ 576kB)

アプリケーションノートを見る
(PDF 577KB)

分析結果の一例

分析結果の一例 イメージ画像クリックして拡大表示ができます。

200 ppb 標準溶液のTICクロマトグラム