ICP-QQQ と GED および金属標準エアロゾル発生との 組み合わせによる HF および Cl2 ガス中の金属および ナノ粒子の総量の測定

Pub.No. 5994-5321JAJP

ガス交換装置（GED）-ICP-MS による半導体産業用特殊ガス中の金属不純物の分析

半導体は、現代生活に欠かせない日常の電子製品に幅広く使用されています。集積回路（IC）のデザインおよび製造に関連する技術は、より高い集積密度およびより低いエネルギー消費とともに、高速化および小型化を求める産業需要を満たすために進展し続けています。IC アーキテクチャが進化するにつれ、構造は複雑化され、線幅は狭くなり、製造ステップは増大しています。半導体産業で使用される化学薬品の品質管理は、チップデザインの開発と歩調を合わせる必要があります。

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分野	材料試験・研究
キーワード	semicon gas impurities; metals contamination in gases; measuring elements in gases
掲載年月	2022/12
ページ数	9ページ （PDFファイルサイズ 1.48MB）

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